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申请/专利权人：无锡松煜科技有限公司

摘要：本发明提供一种太阳能电池钝化层结构及其制备方法、装置，所述方法包括：（1）提供一个ALD沉积腔室，ALD沉积腔室设有至少两个真空发生装置；（2）抽真空，加热至200~310℃，通入TMA，通入氮气吹扫，通入水蒸汽，通入氮气吹扫，以此循环1~30次，沉积第一氧化铝薄膜；单个循环的沉积厚度为0.1~0.14nm；（3）抽真空，保持ALD沉积腔室200~310℃；通入TMA，通入氮气吹扫，通入水蒸汽，通入氮气吹扫，循环1~17次；沉积第二氧化铝薄膜；单个循环的沉积厚度为0.12~0.15nm。本发明通过在ALD沉积腔室设有至少两个真空发生装置，工艺效果稳定性更好，可以防止粉尘倒灌。

主权项：1.一种太阳能电池钝化层结构的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤（1）：提供一个ALD沉积腔室，所述ALD沉积腔室设有至少两个真空发生装置；步骤（2）：将基底放置于载具上，放入ALD沉积腔室内，采用至少两个真空发生装置抽真空，将ALD沉积腔室加热至200~310℃，先通入TMA，然后通入氮气吹扫，然后通入水蒸汽，最后通入氮气吹扫，以此循环1~30次，在基底表面沉积第一氧化铝薄膜；单个循环的沉积厚度为0.1~0.14nm；单个循环中，TMA的通入流量为1000~3000sccm，持续时间在4~8s；单个循环中，水蒸汽的通入流量为1000~5000sccm，持续时间4~8s，停留时间为1~5s；步骤（3）：采用至少两个真空发生装置抽真空，保持ALD沉积腔室200~310℃；先通入TMA，然后通入氮气吹扫，然后通入水蒸汽，最后通入氮气吹扫，以此循环1~17次；在第一氧化铝薄膜表面沉积第二氧化铝薄膜，得到太阳能电池钝化层结构；单个循环的沉积厚度为0.12~0.15nm；单个循环中，TMA的通入流量为2000~4000sccm，持续时间在3~7s；单个循环中，水蒸汽的通入流量为2000~3000sccm，持续时间3~7s，停留时间为1~5s；步骤（2）和（3）中，在通入TMA和水蒸汽时，同时通入稀释N2；且步骤（3）中各气体的通入流量大于步骤（1）中所对应的各气体的通入流量；所述第二氧化铝薄膜致密度低于所述第一氧化铝薄膜的致密度。

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