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介质滤波器 

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申请/专利权人:苏州艾福电子通讯股份有限公司

摘要:本发明提供一种介质滤波器,其包括:本体、设置于本体上的负耦合结构和谐振腔;本体具有顶面和底面,负耦合结构包括:开设于本体底面上的底部盲槽、开设于盲槽中的通孔、形成于本体底面上并沿底部盲槽的槽口边缘设置的凹槽、开设于本体顶面的顶部盲槽,底部盲槽与顶部盲槽的位置对应设置,底部盲槽和底部盲槽的深度h、长度l、宽度w、凹槽的内径R1、外径R2与介质滤波器的滤波带宽呈反比,谐振腔分布于负耦合结构的两侧,任一谐振腔自本体的顶面延伸至本体的中部。本发明的介质滤波器通过在本体的顶面上设置负耦合结构,其可对滤波器的负耦合量的大小进行调节,进而控制滤波器的滤波带宽,有利于获得需求滤波带宽的滤波器。

主权项:1.一种介质滤波器,其特征在于,所述介质滤波器包括:本体、设置于所述本体上的负耦合结构和谐振腔;所述本体具有顶面和底面,所述负耦合结构包括:开设于所述本体底面上的底部盲槽、开设于所述盲槽中的通孔、形成于所述本体底面上并沿所述底部盲槽的槽口边缘设置的凹槽、开设于所述本体顶面的顶部盲槽,所述底部盲槽与顶部盲槽的位置对应设置,所述底部盲槽和底部盲槽的深度h、长度l、宽度w、凹槽的内径R1、外径R2与所述介质滤波器的滤波带宽呈反比,所述谐振腔分布于所述负耦合结构的两侧,任一所述谐振腔自所述本体的顶面延伸至所述本体的中部;所述本体为表面附有金属镀层的陶瓷介质本体;所述底部盲槽为一开设于所述本体底面上的腰形槽,所述顶部盲槽为一开设于所述本体顶面上的矩形槽;所述通孔为两个,两个通孔开设在所述底部盲槽的底面,并延伸至所述顶部盲槽的底面,一个通孔靠近所述底部盲槽的一端设置,另一个通孔靠近所述底部盲槽的另一端设置。

全文数据:介质滤波器技术领域本发明涉及通讯技术领域,尤其涉及一种介质滤波器。背景技术介质滤波器是微波系统中的重要器件,是无线电技术中许多设计问题的中心,用来分开和组合不同的频率信号。随着通信系统的发展,对介质滤波器的设计要求越来越高,需要的滤波器具有高Q值,低损耗,高选择性,同时保证信号失真小,具有线型相位等指标。然而,现有的介质滤波器的滤波带宽选择性较差,无法满足实际的滤波需求。因此,针对上述问题,有必要提出进一步的解决方案。发明内容本发明旨在提供一种介质滤波器,以克服现有技术中存在的不足。为解决上述技术问题,本发明的技术方案是:一种介质滤波器,其包括:本体、设置于所述本体上的负耦合结构和谐振腔;所述本体具有顶面和底面,所述负耦合结构包括:开设于所述本体底面上的底部盲槽、开设于所述盲槽中的通孔、形成于所述本体底面上并沿所述底部盲槽的槽口边缘设置的凹槽、开设于所述本体顶面的顶部盲槽,所述底部盲槽与顶部盲槽的位置对应设置,所述底部盲槽和底部盲槽的深度h、长度l、宽度w、凹槽的内径R1、外径R2与所述介质滤波器的滤波带宽呈反比,所述谐振腔分布于所述负耦合结构的两侧,任一所述谐振腔自所述本体的顶面延伸至所述本体的中部。作为本发明的介质滤波器的改进,所述本体为表面附有金属镀层的陶瓷介质本体。作为本发明的介质滤波器的改进,所述底部盲槽为一开设于所述本体底面上的腰形槽,所述顶部盲槽为一开设于所述本体顶面上的矩形槽。作为本发明的介质滤波器的改进,所述通孔为两个,两个通孔开设在所述底部盲孔的底面,并延伸至所述顶部盲孔的底面,一个通孔靠近所述底部盲槽的一端设置,另一个通孔靠近所述底部盲槽的另一端设置。作为本发明的介质滤波器的改进,所述凹槽为通过激光刻蚀作用形成的激光槽。作为本发明的介质滤波器的改进,所述谐振腔沿所述底部盲槽和底部盲槽的长度方向,对称地分布于所述底部盲槽的两端。作为本发明的介质滤波器的改进,所述底部盲槽的面积小于顶部盲槽的面积。与现有技术相比,本发明的有益效果是:本发明的介质滤波器通过在本体的顶面上设置负耦合结构,其可对滤波器的负耦合量的大小进行调节,进而控制滤波器的滤波带宽,有利于获得需求滤波带宽的滤波器。附图说明为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明中记载的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本发明的介质滤波器的立体示意图;图2为本发明的介质滤波器中底面的负耦合结构的平面放大示意图;图3为本发明的介质滤波器中顶面的负耦合结构的平面放大示意图;图4为本发明的介质滤波器的S参数-频率图;图5为对照滤波器的S参数-频率图。具体实施方式下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。如图1-3所示,本发明的介质滤波器包括:所述介质滤波器包括:本体1、设置于所述本体1上的负耦合结构2和谐振腔3。在示例性的实施例中,所述本体1具有顶面11和底面12,所述本体1具体可为表面附有金属镀层的陶瓷介质本体1。所述负耦合结构2用于实现负耦合量的大小的调节,以对控制滤波器的滤波带宽进行控制。在示例性的实施例中,所述负耦合结构2设置于所述本体11的顶面11上,所述负耦合结构2包括:开设于所述本体1底面上的底部盲槽21、开设于所述盲槽中的通孔22、形成于所述本体1底面上并沿所述底部盲槽21的槽口边缘设置的凹槽23、开设于所述本体1顶面的顶部盲槽24。其中,所述底部盲槽21与顶部盲槽24的位置对应设置。所述底部盲槽21和底部盲槽21的深度h、长度l、宽度w、凹槽23的内径R1、外径R2与所述介质滤波器的滤波带宽呈反比。即,所述底部盲槽21和底部盲槽21的深度h、长度l、宽度w越大,滤波带宽越窄;内径R1、外径R2越大,滤波带宽越窄。从而,通过控制所述底部盲槽21和底部盲槽21的深度h、长度l、宽度w,即控制盲槽的尺寸可控制负耦合量的大小,具体可通过对底部盲槽21和底部盲槽21的侧壁和底壁进行打磨实现尺寸调节。同时,通过控制凹槽23的内径R1、外径R2,即控制环形的凹槽23的大小,对负耦合量的大小进行同步控制,二者同时作用,实现对控制滤波器的滤波带宽进行调节。在示例性的实施例中,所述底部盲槽21为一开设于所述本体1底面上的腰形槽,所述顶部盲槽24为一开设于所述本体1顶面上的矩形槽。在示例性的实施例中,所述通孔22为两个,两个通孔22开设在所述底部盲孔的底面,并延伸至所述顶部盲孔的底面,一个通孔22靠近所述底部盲槽21的一端设置,另一个通孔22靠近所述底部盲槽21的另一端设置。所述通孔22的形状可以为圆孔、腰形孔等结构。在示例性的实施例中,所述凹槽23为通过激光刻蚀作用形成的激光槽。此外,根据需要,也可选择其他的方式实现凹槽23的成型。所述谐振腔3分布于所述负耦合结构2的两侧,任一所述谐振腔3自所述本体1的顶面延伸至所述本体1的中部。在示例性的实施例中,所述谐振腔3沿所述底部盲槽21和底部盲槽21的长度方向,对称地分布于所述底部盲槽21的两端。当所述顶部盲槽24为一开设于所述本体1顶面上的矩形槽时,一个谐振腔3靠近该矩形槽一端设置,另一个谐振腔3对称地靠近该矩形槽的另一端设置。最后,对本发明的介质滤波器的负耦合效果进行如下测试,提供未设置上述负耦合结构的滤波器作为对照,测试其S参数-频率图。如图4、5可知,图4为本发明的介质滤波器,其零点位于左边,如此表明产生的负耦合效果。而图5为未设置上述负耦合结构的滤波器,其零点位于右边,如此表明产生的正耦合效果。综上所述,本发明的介质滤波器通过在本体的顶面上设置负耦合结构,其可对滤波器的负耦合量的大小进行调节,进而控制滤波器的滤波带宽,有利于获得需求滤波带宽的滤波器。对于本领域技术人员而言,显然本发明不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本发明。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

权利要求:1.一种介质滤波器,其特征在于,所述介质滤波器包括:本体、设置于所述本体上的负耦合结构和谐振腔;所述本体具有顶面和底面,所述负耦合结构包括:开设于所述本体底面上的底部盲槽、开设于所述盲槽中的通孔、形成于所述本体底面上并沿所述底部盲槽的槽口边缘设置的凹槽、开设于所述本体顶面的顶部盲槽,所述底部盲槽与顶部盲槽的位置对应设置,所述底部盲槽和底部盲槽的深度h、长度l、宽度w、凹槽的内径R1、外径R2与所述介质滤波器的滤波带宽呈反比,所述谐振腔分布于所述负耦合结构的两侧,任一所述谐振腔自所述本体的顶面延伸至所述本体的中部。2.根据权利要求1所述的介质滤波器,其特征在于,所述本体为表面附有金属镀层的陶瓷介质本体。3.根据权利要求1所述的介质滤波器,其特征在于,所述底部盲槽为一开设于所述本体底面上的腰形槽,所述顶部盲槽为一开设于所述本体顶面上的矩形槽。4.根据权利要求1所述的介质滤波器,其特征在于,所述通孔为两个,两个通孔开设在所述底部盲孔的底面,并延伸至所述顶部盲孔的底面,一个通孔靠近所述底部盲槽的一端设置,另一个通孔靠近所述底部盲槽的另一端设置。5.根据权利要求1所述的介质滤波器,其特征在于,所述凹槽为通过激光刻蚀作用形成的激光槽。6.根据权利要求1所述的介质滤波器,其特征在于,所述谐振腔沿所述底部盲槽和底部盲槽的长度方向,对称地分布于所述底部盲槽的两端。7.根据权利要求1所述的介质滤波器,其特征在于,所述底部盲槽的面积小于顶部盲槽的面积。

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