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用于半导体制造的方法和设备 

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申请/专利权人:纳米瑞典公司

摘要:一种清洗水供应设备50,包括超纯水生产单元54、供应管道52、操作控制器53以及超纯水推动设备55。该供应管道52的第一端连接到该超纯水生产单元54的输出端。该供应管道的第二端适于连接到半导体清洗装置。该操作控制器53被配置为控制该超纯水生产单元54按需生产预定量的超纯水。该超纯水推动设备55能接入惰性气体源,并且被配置为在输送该预定量的超纯水之后用惰性气体冲洗掉该供应管道52的水。还披露了一种半导体清洗系统、一种半导体生产系统以及一种用于供应清洗水的方法。

主权项:1.一种清洗水供应设备50,包括:-超纯水生产单元54;以及-供应管道52,该供应管道的第一端连接到所述超纯水生产单元54的输出端;其中,所述供应管道的第二端适于连接到半导体清洗装置40,其特征在于,-用于所述超纯水生产单元54的操作控制器53;其中,所述操作控制器53被配置为控制所述超纯水生产单元54按需生产预定量的超纯水;以及-超纯水推动设备55,该超纯水推动设备能接入惰性气体源;其中,超纯水推动设备55被配置为在通过所述供应管道52输送所述预定量的超纯水之后用所述惰性气体冲洗掉所述供应管道52的水。

全文数据:

权利要求:

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