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申请/专利权人：应用材料公司
摘要：一种用于化学机械抛光的装置，包括：可旋转平台，具有用以支撑抛光垫的表面；载体头，用以将基板保持与所述抛光垫接触；以及抛光液分布系统。所述抛光液分布系统包括：分配器，被定位为向所述抛光垫的抛光面的一部分递送抛光液，以及第一屏障，定位在所述抛光面的所述部分之前，且被配置为阻挡使用过的抛光液到达所述抛光面的所述部分。
主权项：1.一种用于化学机械抛光的装置，包括：可旋转平台，具有用以支撑抛光垫的表面；载体头，用以将基板保持与所述抛光垫的抛光面接触；抛光液分布系统，所述抛光液分布系统包括：分配器，被定位为向所述抛光垫的抛光面的一部分递送抛光液，以及后屏障，定位在所述分配器和所述载体头之间以在整个所述抛光垫散布所述抛光液，其中所述后屏障包括具有扁平底面和前表面的固态且刚性的主体，所述扁平底面定位成与所述抛光面平行并接触所述抛光面，所述前表面相对于所述抛光面以直角定向以接触所述抛光液，并且其中所述前表面从所述扁平底面的边缘向上延伸并围绕与所述扁平底面垂直的轴线而弯曲。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料公司 用于化学机械抛光的浆料分布设备
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