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申请/专利权人：浙江大学杭州国际科创中心
摘要：本申请涉及二维材料场效应晶体管及其制造方法。该方法包括：形成层叠于介电层并间隔设置的第一电极图案和第二电极图案，介电层包括层叠设置的一个或两个六方氮化硼层；形成层叠于第一电极图案和第二电极图案的转印贴合层；将介电层结合到沟道层；以及去除转印贴合层。该方法可以方便地、良好地实现电极图案的形成与转印，保证了二维材料场效应晶体管的电学性能。
主权项：1.用于制造二维材料场效应晶体管的方法，其特征在于，包括：形成层叠于介电层并间隔设置的第一电极图案和第二电极图案，所述介电层包括层叠设置的一个或两个六方氮化硼层；形成层叠于所述第一电极图案和所述第二电极图案的转印贴合层；将所述介电层结合到沟道层；以及去除所述转印贴合层。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 浙江大学杭州国际科创中心 二维材料场效应晶体管及其制造方法
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