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半导体装置结构 

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申请/专利权人:台湾积体电路制造股份有限公司

摘要:一种半导体装置结构,包括具有装置区域的基底及环绕装置区域的密封环区域。半导体装置结构包括位于密封环区域上方的密封环结构,密封环结构环绕装置区域。半导体装置结构包括位于密封环结构及基底上方的接合膜,半导体装置结构包括埋入接合膜内的接合垫。接合垫沿垂直于基底的第一上表面的轴线与密封环结构重叠,接合垫的第二上表面与接合膜的第三上表面实质上齐平。

主权项:1.一种半导体装置结构,其特征在于,包括:一基底,具有一装置区域及环绕该装置区域的一密封环区域;一密封环结构,位于该密封环区域上方,其中该密封环结构环绕该装置区域;一接合膜,位于该密封环结构及基底上方;一接合垫,埋入该接合膜内,其中该接合垫沿垂直于该基底的一第一上表面的一轴线与该密封环结构重叠,且该接合垫的一第二上表面与该接合膜的一第三上表面齐平。

全文数据:

权利要求:

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