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申请/专利权人:上海华虹宏力半导体制造有限公司
摘要:本发明提供了一种射频开关的仿真模型,包括:MOS管、第一电容、第二电容和体区电阻;MOS管的源端接第一电容的第一端,第一电容的第二端接第二电容的第一端,第二电容的第二端接MOS管的漏端,MOS管的衬底电极端接体区电阻的第一端,体区电阻的第二端用于接体区接触孔,其中,第一电容为BOX层和源端之间产生的电容,第二电容为BOX层和漏端之间产生的电容。本发明将体区的电阻、BOX层与源端的电阻以及BOX层与漏端的电阻考虑到仿真模型中,所以提高了漏端的IV电流,栅极到源端和栅极到漏端的电容之和,开态时的电阻,关态时的电容以及输出信号谐波的仿真速度。
主权项:1.一种射频开关的仿真模型,射频开关包括:衬底;埋氧层,所述埋氧层位于所述衬底上;顶层硅,所述顶层硅位于所述埋氧层上;栅极,所述栅极位于所述顶层硅上;体区,所述体区位于所述顶层硅内;源端和漏端,所述源端和漏端均位于所述顶层硅内,所述源端和漏端分别位于所述体区的两侧,所述体区上形成有体区接触孔,其特征在于,包括:MOS管、第一电容、第二电容和体区电阻;所述MOS管的源端接所述第一电容的第一端,所述第一电容的第二端接所述第二电容的第一端,所述第二电容的第二端接所述MOS管的漏端,所述MOS管的衬底电极端接所述体区电阻的第一端,所述体区电阻的第二端用于接所述体区接触孔,其中,所述第一电容为BOX层和源端之间产生的电容,所述第二电容为BOX层和漏端之间产生的电容。
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百度查询: 上海华虹宏力半导体制造有限公司 射频开关
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