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申请/专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
摘要：本发明提供了纳米管束的制造和用于其的反应器。提供了一种形成用于极紫外光刻的护层的方法。所述方法包括在过滤膜上方形成护层膜并将所述护层膜从所述过滤膜转移到膜边界。形成护层膜包括：在反应器的第一反应区中由原位形成的金属催化剂颗粒生长出碳纳米管CNT，所述CNT中的每一个包括在所述CNT的生长尖端处的金属催化剂颗粒，促进各个CNT在位于第一反应区下游的所述反应器的第二反应区中形成纳米管束。然后，将成束CNT收集在所述过滤膜上。
主权项：1.一种形成用于极紫外光刻掩模的护层的方法，包括：在过滤膜上方形成护层膜，其中形成所述护层膜包括：在反应器的第一反应区中由金属催化剂颗粒生长出碳纳米管CNT，所述反应器包括轴向中心线，所述CNT中的每个CNT包括在所述CNT的生长顶端处的金属催化剂颗粒中的一个金属催化剂颗粒；使所述CNT沿与所述反应器的轴向中心线基本上平行的方向流动；改变所述CNT的流动方向，使其与所述反应器的轴向中心线基本上平行的方向不同；将所述CNT组合成CNT束；以及将所述CNT束收集到所述过滤膜上；以及将所述护层膜从所述过滤膜转移到膜边界234。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 台湾积体电路制造股份有限公司 纳米管束的制造和用于其的反应器
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