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申请/专利权人：浙江奥首材料科技有限公司
摘要：本发明提供一种稳定的半导体芯片清洗液及其制备方法与应用，本发明稳定的半导体芯片清洗液包括重量配比如下的各组分：携负电荷氧原子的氮杂环氧化物0.1‑1份；含氟羧酸氮杂环衍生物0.1‑1份；过氧化氢15‑25份；碱5‑15份；缓蚀剂8‑15份；氟化物0.1‑0.5份；超纯水40‑90份。本发明稳定的半导体芯片清洗液寿命长，在持续投入芯片的情况下，仍然能够稳定蚀刻氮化钛硬掩膜，并保证对芯片上的残留物的清洗效果。本发明稳定的半导体芯片清洗液能有效抑制过氧化氢的分解和稳定蚀刻氮化钛硬掩膜，同时对金属非金属基材的兼容性较好。
主权项：1.一种稳定的半导体芯片清洗液，其特征在于，包括重量配比如下的各组分：
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百度查询： 浙江奥首材料科技有限公司 一种稳定的半导体芯片清洗液及其制备方法与应用
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