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申请/专利权人：北京火眼新材料制造有限公司
摘要：本申请涉及划痕检测技术领域，提供了一种透明晶圆表面纳米级划痕检测系统及方法，采用晶圆夹持部件对晶圆进行支撑以使得承载台的周边镂空，从而消除了捕获的检测图像受承载台纹理的干扰，并且对晶圆与下方的可移动基座之间的距离进行限定，晶圆的上表面到可移动基座的上表面的距离需大于图像采集装置中物镜景深的十倍，且尽可能使透过晶圆的照明光束落在可移动基座上表面的光斑在图像采集装置的可视区域以外，使得晶圆下方和边缘的背景光线无法被图像采集装置获取，从而降低了检测图像中背景干扰的影响，同时利用图像处理装置的多参数判断划痕算法对检测图像进行消除颗粒处理，有效滤除晶圆表面的灰尘干扰，有利于提升纳米级浅划痕的检测精度。
主权项：1.一种透明晶圆表面纳米级划痕检测系统，其特征在于，包括：晶圆承载装置，所述晶圆承载装置包括承载台和可移动基座，所述承载台通过支撑组件悬空安装在所述可移动基座的上方；所述承载台上设有透光孔，所述透光孔的直径大于待检测晶圆的直径，所述透光孔的内壁沿周向设有多个晶圆夹持部件，用于支撑待检测晶圆；暗场照明光源，位于承载台的上方，用于为待检测晶圆提供不同角度的照明光束；其中，所述暗场照明光源可为宽光谱白光光源，用于检出晶圆上表面和下表面的划痕；或者，所述暗场照明光源也可根据晶圆的吸收特性选择特定波长的窄光谱单色光源，配合滤光片用于只检出晶圆上表面的划痕；图像采集装置，用于获取待检测晶圆表面的检测图像；所述晶圆上表面到所述可移动基座的上表面的距离需大于图像采集装置中物镜景深的十倍，且尽可能使透过晶圆的照明光束落在所述可移动基座上表面的光斑在所述图像采集装置的可视区域以外，以避免待检测晶圆下方部件的杂散光对检测结果产生干扰；待检测晶圆上表面与可移动基座上表面的距离和所述图像采集装置采集的图像背景强度，满足SWeibull2拟合公式；控制组件，包括图像处理装置，所述图像处理装置与所述图像采集装置电性连接，用于利用多参数判断划痕算法对所述检测图像进行消除颗粒处理，以获得最终的划痕集。
全文数据：
权利要求：
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