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一种全范德华接触的顶栅柔性铁电晶体管及其制备方法 

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申请/专利权人:华中科技大学

摘要:本发明涉及半导体器件领域,尤其涉及一种全范德华接触的顶栅柔性铁电晶体管及其制备方法,包括以下步骤:S1、通过湿法转移法在柔性衬底上两侧制备源漏电极层;S2、通过湿法转移法在源漏电极上制备沟道层,所述沟道层覆盖在源漏电极和除源漏电极以外的柔性衬底;S3、在铜箔上制备二维介质层金属种子层铁电层结构,然后将二维介质层金属种子层铁电层结构整体转移至沟道层上;S4、在铁电层表面通过电子束蒸发法制备顶栅电极层。通过整体转移法可避免对沟道层和柔性衬底材料的损伤;通过沉积超薄金属种子层提供了一种解决铁电层难以成核生长以及双层结构无稳定化学键连接导致转移过程中铁电层出现破裂甚至脱落问题的方法。

主权项:1.一种全范德华接触的顶栅柔性铁电晶体管的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:S1、通过湿法转移法在柔性衬底上两侧制备源漏电极层;S2、通过湿法转移法在源漏电极上制备沟道层,所述沟道层覆盖在源漏电极层和除源漏电极层以外的柔性衬底上;S3、在铜箔上制备二维介质层金属种子层铁电层结构,然后将二维介质层金属种子层铁电层结构整体转移至沟道层上;S4、在铁电层表面通过电子束蒸发法制备顶栅电极层。

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权利要求:

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