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申请/专利权人：京瓷办公信息系统株式会社
摘要：本发明提供一种薄片体后处理装置，其包括排出口、排出盘、第一薄片体按压构件、第二薄片体按压构件和保持构件。所述保持构件具有保持所述第一薄片体按压构件的第一保持部，以及保持所述第二薄片体按压构件的第二保持部。所述第一保持部将所述第一薄片体按压构件选择性地保持在按压薄片体的第一按压位置以及退避到比排出路径靠上方的第一退避位置。所述第二保持部将所述第二薄片体按压构件选择性地保持在按压薄片体的第二按压位置以及退避到比排出路径靠上方的第二退避位置。
主权项：1.一种薄片体后处理装置，其特征在于包括：排出口，具有将薄片体排出的排出辊对；排出盘，堆放从所述排出口排出的所述薄片体；第一薄片体按压构件，安装在所述排出辊对的上方，按压所述排出盘上堆放的所述薄片体的排出方向上游部；第二薄片体按压构件，安装在所述排出辊对的上方，按压所述排出盘上堆放的所述薄片体的排出方向下游部；以及保持构件，保持所述第一薄片体按压构件和所述第二薄片体按压构件，所述保持构件包括：第一保持部，将所述第一薄片体按压构件可摆动地保持在第一按压位置和第一退避位置，在所述第一按压位置的所述第一薄片体按压构件与所述薄片体的排出路径交叉，从所述排出辊对的上方朝所述排出盘向下方延伸，按压所述薄片体，在所述第一退避位置的所述第一薄片体按压构件退避到比所述薄片体的排出路径靠上方；以及第二保持部，将所述第二薄片体按压构件可摆动地保持在第二按压位置和第二退避位置，在所述第二按压位置的所述第二薄片体按压构件与所述薄片体的排出路径交叉，从所述排出辊对的上方朝所述排出盘向下方延伸，按压所述薄片体，在所述第二退避位置的所述第二薄片体按压构件退避到比所述薄片体的排出路径靠上方，所述第一保持部将所述第一薄片体按压构件选择性地保持在所述第一按压位置和所述第一退避位置，所述第二保持部将所述第二薄片体按压构件选择性地保持在所述第二按压位置和所述第二退避位置。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 京瓷办公信息系统株式会社 薄片体后处理装置
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