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测试单元及形成方法、测试结构及测试方法 

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申请/专利权人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

摘要:一种测试单元及形成方法、测试结构及测试方法,其中测试单元包括:衬底;位于衬底上的若干相互分立的第一导线层,第一导线包括相对的第一端部区和第二端部区;位于第一端部区上的第一导电插塞,第一导电插塞的底部与第一端部区的表面接触;位于第二端部区上的第二导电插塞,第二导电插塞的底部与第二端部区的表面接触;位于第一导电插塞顶部表面和第二导电插塞顶部表面的若干相互分立的第二导线层,与第二导线层连接的第一导电插塞和第二导电插塞位于不同的第一导线层上,第一导线层和第二导线层串联;可以有效反映出导线层与导电插塞之间相关的工艺能力及水平,进而对相关的工艺制程做出针对性的改善。

主权项:1.一种测试单元,其特征在于,包括:衬底;位于所述衬底上的若干相互分立的第一导线层,所述第一导线包括相对的第一端部区和第二端部区;位于所述第一端部区上的第一导电插塞,所述第一导电插塞的底部与所述第一端部区的表面接触;位于所述第二端部区上的第二导电插塞,所述第二导电插塞的底部与所述第二端部区的表面接触;位于所述第一导电插塞顶部表面和所述第二导电插塞顶部表面的若干相互分立的第二导线层,与所述第二导线层连接的所述第一导电插塞和所述第二导电插塞位于不同的所述第一导线层上,所述第一导线层和所述第二导线层串联。

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百度查询: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 测试单元及形成方法、测试结构及测试方法

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