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申请/专利权人：中国地质大学(武汉)
摘要：本发明的一种掩膜‑缩放‑热微控集成的反射式凹面版及其制备方法和应用。本发明涉及光刻技术领域。本发明包括具有反射性能的凹面基底，凹面基底内凹侧设有掩膜区，凹面基底的外凸侧为热交换区，划分为多个分控区域，分控区域设有热交换组件，用于控制凹面基底各分控区域的温度。本发明的一种掩膜‑缩放‑热微控集成的反射式凹面版通过一体化集成和协同工作，实现精确控制光波的传播、聚焦以及微调光刻过程中反射凹面版的局域温度和形变，以此修正光刻过程中的图案偏差，改善像差、场曲、形变、衍射和散射等问题，以优化光刻质量、精度和生产效率。
主权项：1.一种掩膜-缩放-热微控集成的反射式凹面版，其特征在于：包括具有反射性能的凹面基底，所述凹面基底内凹侧设有掩膜区，所述凹面基底的外凸侧为热交换区，划分为多个分控区域，分控区域设有热交换组件，用于控制所述凹面基底各分控区域的温度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国地质大学(武汉) 一种掩膜-缩放-热微控集成的反射式凹面版及其制备方法和应用
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