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一种ICP-MSMS法直接测定半导体发烟硝酸中痕量金属的方法 

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申请/专利权人:苏州赛米肯分析技术有限公司

摘要:本发明公开了一种ICP‑MSMS法直接测定半导体发烟硝酸中痕量金属杂质的方法,采用ICP‑MSMS法检测硝酸中Li、Ca、Pb等20种金属。具体包含以下步骤:(1)500毫升PFA瓶的清洗;(2)100毫升PFA瓶的清洗;(3)清洗仪器设备;(3)使用无气体、冷焰氨气和氦气三种模式,通过标准加入法,20种元素均小于1ngL。本发明方法解决了传统ICP‑MS干扰消除能力有限,需要加热蒸发和复溶等复杂前处理后,才能测试硝酸1ngL以下金属含量的问题。相对于现有技术,本发明方法更直接、更简单、污染更少、更稳定、对人员要求更低、检出限更低,可以准确而稳定测试最先进纳米制程用高纯硝酸,且操作简单、样品通量大、测试效率高、测试成本低、维护成本低、易于方法转移和标准化等。

主权项:1.一种ICP-MSMS法直接测定半导体发烟硝酸中痕量金属的方法,其特征在于:采用Semi-G5半导体硝酸反复浸泡清洗100mL和500ml规格的PFA瓶后,使用500毫升PFA瓶装入Semi-G5半导体硝酸在线清洗ICP-MSMS进样系统和Pt锥口系统,使用100毫升PFA装入半导体发烟硝酸,采用三重四级杆电感耦合等离子体串联质谱法(ICP-MSMS)同时检测半导体发烟硝酸中Li、Be、Na、Mg、Al、K、Ca、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Sn、Sb、Pb、Bi等20种痕量金属杂质的含量。

全文数据:

权利要求:

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