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申请/专利权人：深圳左文科技有限责任公司
摘要：本发明公开了一种MPCVD设备所使用基片台的表面处理方法，属于金刚石、钻石人工合成领域。包括以下步骤：S1：喷砂处理；S2：超声波清洗；S3：等离子体烧蚀处理。与现有技术相比，本发明的有益效果是：通过喷砂、超声波、等离子烧蚀相结合对基片台进行处理，喷砂处理能够通过强力的打磨以去除掉其表面难以处理的含碳杂质，超声波能够清洗掉喷砂残留的砂料及基片台上沉积的无机离子，等离子烧蚀能够除去基片台表面残余的油污、微毛絮等杂质，通过三者相配合，能够在不破坏基片台的情况下对其表面附着力较强的含碳杂质进行处理。
主权项：1.一种MPCVD设备所使用基片台的表面处理方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：喷砂处理：将基片台放入喷砂机内对其表面附着的含碳杂质进行打磨处理；S2：超声波清洗：将喷砂处理后的基片台放入超声波仪器中清洗掉表面残余的砂料；S3：等离子体烧蚀处理：将超声波清洗完成后的基片台放入MPCVD设备中进行等离子体烧蚀。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 深圳左文科技有限责任公司 一种MPCVD设备所使用基片台的表面处理方法
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