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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：一种用于控制将EUV目标材料引入EUV腔室的装置，其中流限制器的孔口被放置在目标材料通过微滴生成器的流动路径中，例如，在微滴生成器内过滤器的上游位置处。此外，液态锡传感器例如，传导探针或电负载检测器可以位于微滴生成器的加热器块的体积中。流限制器可以被配置为附加地用作例如用于过滤器的密封件。因此，流限制器可以被配置为金属盘，该金属盘还可以用作密封垫圈。例如，金属可以是未经退火的钽、钽‑钨合金、经退火的钼、钼‑铼合金、或经退火的铼。
主权项：1.一种用于分配目标材料的装置，包括：真空腔室；光学元件，位于所述真空腔室内，所述光学元件在所述真空腔室内具有主焦点；以及目标材料分配器，被布置为将目标材料分配到所述真空腔室中所述主焦点处的照射部位，所述目标材料分配器包括目标材料储存器、分配器部件、用于将目标材料从所述目标材料储存器输送到所述分配器部件的导管、以及位于所述导管中用于限制目标材料通过所述导管的流的流限制器，所述分配器部件为喷嘴和过滤器中的至少一项；其中所述流限制器被配置为具有孔口的盘，所述孔口被销部分阻塞。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 用于控制将EUV目标材料引入到EUV腔室中的装置
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