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申请/专利权人：国家纳米科学中心

摘要：本发明提供一种利用光谱椭偏仪检测超厚金属膜的方法及装置。其中，该方法包括：预先确定硅衬底、介质膜以及金属膜组成的第三体系，并利用光谱椭偏仪测量所述第三体系中金属膜的椭偏参量；根据所述第三体系中金属膜的椭偏参量的特征峰出现的波长位置选择相应的目标波长范围；在所述目标波长范围内，基于所述金属膜的椭偏参量、所述介质膜的光学常数和厚度数据，确定所述金属膜的光学常数和厚度数据。采用本发明公开的利用光谱椭偏仪检测超厚金属膜的方法，能够有效提高利用光谱椭偏仪检测超厚金属膜的精度和灵敏度。

主权项：1.一种利用光谱椭偏仪检测超厚金属膜的方法，其特征在于，包括：预先确定硅衬底、介质膜以及金属膜组成的第三体系，并利用光谱椭偏仪测量所述第三体系中金属膜的椭偏参量；所述预先确定硅衬底、介质膜以及金属膜组成的第三体系，具体包括：预先构建硅衬底组成的第一体系；在所述第一体系上制备介质膜，以实现构建所述硅衬底和所述介质膜组成的第二体系，并利用所述光谱椭偏仪测量所述第二体系中介质膜的椭偏参量；根据所述介质膜的椭偏参量，确定所述介质膜的光学常数和厚度数据；在所述第二体系上制备金属膜，以实现构建所述硅衬底、所述介质膜以及所述金属膜组成的第三体系；其中，所述金属膜为厚度大于或等于100nm的金属膜；根据所述第三体系中金属膜的椭偏参量的特征峰出现的波长位置选择相应的目标波长范围；在所述目标波长范围内，基于所述金属膜的椭偏参量、所述介质膜的光学常数和厚度数据，确定所述金属膜的光学常数和厚度数据；所述根据所述介质膜的椭偏参量，确定所述介质膜的光学常数和厚度数据，具体包括：确定所述第一体系对应的第一椭偏拟合模型，在所述第一椭偏拟合模型的基础上构建所述第二体系对应的第二椭偏拟合模型，利用所述第二椭偏拟合模型对所述第二体系中介质膜的椭偏参量进行拟合，得到并记录所述介质膜的光学常数和厚度数据；所述在所述目标波长范围内，基于所述金属膜的椭偏参量、所述介质膜的光学常数和厚度数据，确定所述金属膜的光学常数和厚度数据，具体包括：确定所述第三体系对应的第三椭偏拟合模型，在所述目标波长范围内，利用所述第三椭偏拟合模型对所述第三体系中金属膜的椭偏参量进行拟合，得到所述金属膜的光学常数和厚度数据。

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权利要求：

百度查询： 国家纳米科学中心 一种利用光谱椭偏仪检测超厚金属膜的方法及装置