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申请/专利权人：中国电子科技集团公司第四十八研究所
摘要：本发明公开了一种MOCVD设备的反应室，圆筒腔体的两端分别与顶盖组件和底板组件连接，圆筒腔体内部设有生长室组件和线圈组件；顶盖组件包括进气喷头，进气喷头与生长室连通，以实现工艺气体输送至生长室内；生长室组件包括生长室顶板、生长室底板、基座和尾气收集器，基座用于承载衬底；线圈组件安装在底板组件上，并位于生长室底板与基座之间，以实现生长室内部加热；旋转组件穿过底板组件，并与基座底部连接，在旋转组件的驱动下，基座在圆筒腔体内部匀速旋转；尾气收集器环绕在基座外侧，并分别与生长室顶板和生长室底板密封贴合，尾气收集器贯穿底板组件，以实现生长室内的尾气外排。本发明具有结构紧凑、操作简单、通用性强等优点。
主权项：1.一种MOCVD设备的反应室，其特征在于，包括：顶盖组件、圆筒腔体4、生长室组件、底板组件和旋转组件；所述圆筒腔体4的两端分别与顶盖组件和底板组件连接，所述圆筒腔体4内部设有生长室组件和线圈组件12；所述顶盖组件包括进气喷头1，所述进气喷头1与生长室连通，以实现工艺气体输送至生长室内；所述生长室组件包括生长室顶板5、生长室底板9、基座10和尾气收集器，所述基座10用于承载衬底；所述线圈组件12安装在底板组件上，并位于生长室底板9与基座10之间，以实现生长室内部加热，完成衬底生长；所述旋转组件穿过底板组件，并与基座10底部连接，在旋转组件的驱动下，基座10在圆筒腔体4内部匀速旋转；所述尾气收集器环绕在基座10外侧，并分别与生长室顶板5和生长室底板9密封贴合，尾气收集器贯穿底板组件，以实现生长室内的尾气外排。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国电子科技集团公司第四十八研究所 一种MOCVD设备的反应室
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