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角度磨抛装置和角度磨抛方法 

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申请/专利权人:西安奕斯伟材料科技股份有限公司

摘要:本公开涉及角度磨抛装置和角度磨抛方法。该角度磨抛装置用于对硬脆性材料的样片进行角度抛光,其包括:角度抛光部分,包括用于在角度抛光时在其上承载样片的样片承载平面,样片承载平面相对于研磨平面成与样片要被抛光的角度相同的角度,其中,研磨平面为与角度磨抛装置的研磨方向垂直的平面;以及分压部分,包括用于在角度抛光时在其上承载非耐磨材料的分压片的分压片承载平面,分压片承载平面与研磨平面平行,其中,分压片承载平面和样片承载平面的高度配置成使得在沿研磨方向对样片进行角度抛光时分压片先于样片被面磨抛。通过该角度磨抛装置和角度磨抛方法,既能够降低碎片发生的风险又能够提高检测效率。

主权项:1.一种角度磨抛装置,用于对硬脆性材料的样片进行角度抛光,其特征在于,包括:角度抛光部分,包括样片承载平面,所述样片承载平面用于在角度抛光时在其上承载所述样片,所述样片承载平面相对于研磨平面成与所述样片要被抛光的角度相同的角度,其中,所述研磨平面为与所述角度磨抛装置的研磨方向垂直的平面;以及分压部分,包括分压片承载平面,所述分压片承载平面用于在角度抛光时在其上承载非耐磨材料的分压片,所述分压片承载平面与所述研磨平面平行,其中,所述分压片承载平面和所述样片承载平面的高度配置成使得在沿所述研磨方向对所述样片进行角度抛光时所述分压片先于所述样片被面磨抛。

全文数据:

权利要求:

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