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申请/专利权人：苏州佑伦真空设备科技有限公司

摘要：本申请提供一种具有下沉腔体的真空镀膜设备，包括主腔体和下沉腔体，主腔体和下沉腔体相互配合，蒸发的气体依次经过主腔体和下沉腔体，以接力的方式呈球面状向外扩散，来满足扩散尺寸的要求，使得所需真空腔体尺寸规格有效减小，设备内部容积大幅度降低，所述主腔体和下沉腔体的连通处设有遮蔽机构，所述下沉腔体处开设有外开门，蒸发台设备进行重新工作的时候不需要重新抽真空，节省时间和成本，同时便于蒸发源等设置在第二腔体的设备的更换或者添料。

主权项：1.一种具有下沉腔体的真空镀膜设备，包括主腔体1和下沉腔体2，所述下沉腔体2位于主腔体1的底部中心处，所述主腔体1和下沉腔体2相互连通且所述下沉腔体2的体积小于所述主腔体1的体积，所述下沉腔体2的底部中心位置设有蒸发源结构3，所述主腔体1的顶部中心位置设有晶源载体结构4，其特征在于：所述主腔体1和下沉腔体2的连通处设有遮蔽机构5，当需要更换或者维修下沉腔体2内的设备时，所述遮蔽机构5用于将所述主腔体1和下沉腔体2的连通处完全遮蔽，所述下沉腔体2处开设有外开门6，所述蒸发源结构3的底部设有滑动机构，所述滑动机构包括与下沉腔体2底部连接的滑轨机构9以及设置在滑轨机构9上部并与滑轨机构9配合滑动连接的滑块机构12，所述滑块机构12上部安装有蒸发源结构3，所述滑块机构12的一侧端与外开门6连接，所述滑轨机构9靠近外开门6的两侧端对称的设置有限位机构15，所述限位机构15的底端与下沉腔体2的底部连接，所述限位机构15的上端与滑块机构12的上部接触连接，用于对滑块机构12进行限位，使得滑块机构12沿滑轨机构9直线运动，考虑到所述限位机构15的上端与滑块机构12的上部接触连接会产生摩擦力，故而，所述限位机构15的上端设有一排第二滑轮16，所述每个第二滑轮16均设有第二连接杆17，所述第二连接杆17穿过对应的限位机构15的一侧后通过螺丝与限位机构15连接，所述第二滑轮16能够在限位机构15上自由转动，蒸发源结构3远离外开门6端设有坩埚转动杆32，所述下沉腔体2上连接有坩埚驱动杆35，所述坩埚驱动杆35与坩埚转动杆32连接后，带动蒸发源结构3的坩埚内的坩埚穴转动，使得穴位进行交替，所述外开门6左右两端设有伸缩拉杆19，当外开门6被打开时，用于外开门6与下沉腔体2的连接。

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