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申请/专利权人：易安爱富科技有限公司
摘要：本发明涉及半导体基板清洗剂组合物和利用其的半导体基板清洗方法，其通过包含用化学式1表示的化合物、用化学式2表示的化合物和有机溶剂，可形成在具有高纵横比的精细图案的水洗清洗工艺中也能够防止图案的坍塌的表面保护膜，并且由此可提供半导体制造良率得到改善的半导体器件制造方法。
主权项：1.一种半导体基板清洗剂组合物，包含用下述化学式1表示的化合物、用化学式2表示的化合物和有机溶剂，[化学式1] [化学式2] 在所述化学式1和所述化学式2中，R1至R5和R10独立地选自氢、卤素基、羟基、C1-C8烷基、用卤素基取代的C1-C8烷基、用羟基取代的C1-C8烷基、环烷基和杂环烷基；R6至R9选自氢、卤素基、羟基、C1-C8烷基、C1-C8烷氧基、-NR'R”基；R'和R”独立地选自氢和C1-C4烷基，或者R'和R”可彼此连接以形成5至7元环。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 易安爱富科技有限公司 半导体基板清洗剂组合物和利用其的清洗方法
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