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申请/专利权人：广州新锐光掩模科技有限公司
摘要：本申请提供一种利于定位光掩模缺陷位置的方法及系统，应用于光掩模缺陷分析定位技术领域，其中，包括如下步骤：标记制作步骤：在光掩模上的目标缺陷位置制作出标记图形；光掩模处理步骤：通过定位标记图形，对在目标缺陷位置制作标记图形的光掩模进行处理分析，判断目标缺陷出处。本发明在光掩模上制作出具有定位特性的标志图形，裂片处理时能快速有效的定位缺陷位置，成分分析过程中可有效提高目标缺陷的辨识度，便于找到和区分目标缺陷，适用于光掩模缺陷分析过程中难定位的情况，可有效提高目标缺陷的辨识度，利于制样及在分析设备上便于找到和区分目标缺陷。
主权项：1.一种利于定位光掩模缺陷位置的方法，其特征在于，包括如下步骤：标记制作步骤：在光掩模上的目标缺陷位置制作出标记图形；光掩模处理步骤：通过定位标记图形，对在目标缺陷位置制作标记图形的光掩模进行处理分析，判断目标缺陷出处。
全文数据：
权利要求：
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