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一种氧化钇陶瓷涂层原子层沉积系统 

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申请/专利权人:沈阳富创精密设备股份有限公司

摘要:本发明涉及原子层沉积技术领域,具体是一种氧化钇陶瓷涂层原子层沉积系统,包括导轨和沿着导轨方向依次设置的七个工作工位,所述工作工位依次为上料工位、预处理工位、前驱体反应工位、中间处理工位、氧化剂反应工位、后处理工位和下料工位,在所述预处理工位、前驱体反应工位、中间处理工位、氧化剂反应工位和后处理工位上分别设置有一个单体工序腔,单体工序腔分别为预处理腔、前驱体反应腔、中间处理腔、氧化剂反应腔和后处理腔,在导轨上安装有与七个所述工作工位相对应的可移动的单体工件装载装置,所述单体工件装载装置与所述单体工序腔通过快速接通机构连通或断开。该氧系统实现了氧化钇陶瓷涂层原子层沉积的工业化生产,提高了生产效率。

主权项:1.一种氧化钇陶瓷涂层原子层沉积系统,其特征在于,包括导轨(1)和沿着导轨(1)方向依次设置的七个工作工位,所述工作工位依次为上料工位、预处理工位、前驱体反应工位、中间处理工位、氧化剂反应工位、后处理工位和下料工位,在所述预处理工位、前驱体反应工位、中间处理工位、氧化剂反应工位和后处理工位上分别设置有一个单体工序腔(2),所述单体工序腔(2)分别为预处理腔、前驱体反应腔、中间处理腔、氧化剂反应腔和后处理腔,在导轨(1)上安装有与七个所述工作工位相对应的可移动的单体工件装载装置,所述单体工件装载装置(3)与所述单体工序腔(2)通过快速接通机构连通或断开。

全文数据:

权利要求:

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