申请/专利权人:珠海鼎泰芯源晶体有限公司
申请日:2022-09-13
公开(公告)日:2024-07-05
公开(公告)号:CN115491203B
主分类号:C09K13/08
分类号:C09K13/08;H01L21/306
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2024.07.05#授权;2023.01.03#实质审查的生效;2022.12.20#公开
摘要:本发明属于材料加工技术领域,提供了一种腐蚀液及其制备方法和应用,本发明的腐蚀液包括两种含有不同组分的第一腐蚀液和第二腐蚀液,通过两种腐蚀液的配合,使得腐蚀后的材料的亚表面损伤能够有效改善,同时腐蚀液腐蚀速率均匀,避免了水波纹及亮点等缺陷的产生,改善研磨片表面质量,本发明的产品腐蚀后材料的表面粗糙度不超过0.7μm,腐蚀后表面平整光洁,可满足后续工艺如抛光和清洗的要求;本发明提供的腐蚀方法操作简便,可以适用于半导体材料的批量腐蚀制备,例如磷化铟研磨片的腐蚀加工,腐蚀方法工艺简单、高效,腐蚀效果稳定。
主权项:1.一种磷化铟的腐蚀方法,其特征在于,包括如下步骤:依次采用第一腐蚀液和第二腐蚀液对待腐蚀的材料进行腐蚀;先分别配置第一腐蚀液和第二腐蚀液;将待腐蚀的材料放入第一腐蚀液中进行第一腐蚀;第一腐蚀完成后,清洗材料;将材料放入第二腐蚀液中进行第二腐蚀;第二腐蚀完成后,将材料进行干燥;所述第一腐蚀和第二腐蚀的温度为10-20℃;所述第一腐蚀的时间为2-8min;所述第二腐蚀的时间为30s;所述第一腐蚀液由如下组分组成:冰醋酸、三氧化铬、氢氟酸和水;所述第二腐蚀液由如下组分组成:氢氟酸、硝酸和水。
全文数据:
权利要求:
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