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申请/专利权人：上海应用技术大学
摘要：本发明涉及表面处理技术领域，具体涉及一种铜电解抛光液及电解抛光方法，包括以下重量份的各组分：磷酸45‑55份；光亮剂4‑5份；整平剂0.5‑1份；纯水30‑50份；包括如下步骤：S1：铜预处理：将待抛光铜材料置于稀酸中超声活化，随后在去离子水中超声清洗；S2：电解抛光：将经预处理的铜材料置于铜电解抛光液中电解抛光；S3：铜后处理：将经电解抛光的铜材料在1号钝化液中一次超声处理，随后在2号钝化液中二次超声处理，最后清洗并烘干。与现有技术相比，本发明实现了无毒无害无污染的铜电解抛光液及电解抛光方法，适用于工业大批量生产，且抛光产品质量高，更加光亮。
主权项：1.一种采用铜电解抛光液的电解抛光方法，其特征在于，所述的铜电解抛光液包括以下重量份的各组分：磷酸45-55份；光亮剂4-5份；整平剂0.5-1份；纯水30-50份；所述的电解抛光方法包括如下步骤：S1：铜预处理：将待抛光铜材料置于稀酸中进行超声活化，随后在去离子水中进行超声清洗；S2：电解抛光：将步骤S1中经预处理的铜材料置于所述的铜电解抛光液中进行电解抛光，其中，经预处理的铜材料为阳极，金属板为阴极；S3：铜后处理：将步骤S2中经电解抛光的铜材料在1号钝化液中进行一次超声处理，随后在2号钝化液中进行二次超声处理，最后进行清洗并烘干，得到电解抛光完成的铜材料；步骤S1中所述的稀酸为5%的稀硫酸；所述的超声活化的时间为30-120s；所述的超声清洗的时间为30-120s；步骤S2在电解抛光过程中还对电解抛光液进行搅拌分散，搅拌分散的转速为400-800rmin；步骤S3中所述的1号钝化液为35-50wt%的稀硝酸溶液；所述的一次超声处理的时间为1-2min；所述的2号钝化液为苯骈三氮唑与无水乙醇的混合溶液，该混合溶液的浓度为2g苯骈三氮唑100mL无水乙醇；所述的二次超声处理的时间为5-10min。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海应用技术大学 一种铜电解抛光液及电解抛光方法
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