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申请/专利权人：三星电子株式会社
摘要：公开集成电路装置和包括集成电路装置的电子系统。所述集成电路装置包括：基底，包括存储器单元区域和连接区域；栅极堆叠件，包括在基底上在竖直方向上彼此分开的多个栅电极；多个栅极连接开口，在连接区域中布置为从栅极堆叠件的上表面向内延伸，在所述多个栅极连接开口中的每个的底表面处暴露所述多个栅电极中的一个栅电极；多个栅极连接结构，分别覆盖所述多个栅极连接开口的至少内侧表面，所述多个栅极连接结构中的每个与所述一个栅电极连接；以及多个栅极接触件，分别连接到所述多个栅极连接结构的上端。
主权项：1.一种集成电路装置，包括：基底，包括存储器单元区域和连接区域；栅极堆叠件，在基底上并且包括在竖直方向上彼此分开的多个栅电极，多个栅极连接开口被限定为在连接区域中从栅极堆叠件的上表面向内延伸，在所述多个栅极连接开口中的每个的底表面处暴露所述多个栅电极中的一个栅电极；多个栅极连接结构，分别覆盖所述多个栅极连接开口的至少内侧表面，所述多个栅极连接结构中的每个与所述多个栅电极中的在所述多个栅极连接开口中的每个的底表面处暴露的所述一个栅电极连接；以及多个栅极接触件，分别连接到所述多个栅极连接结构的上端。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 三星电子株式会社 集成电路装置和包括集成电路装置的电子系统
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