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介质镶嵌多层金属网屏蔽效能的解析方法及电子设备 

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申请/专利权人:西安电子科技大学

摘要:本发明公开了一种介质镶嵌多层金属网屏蔽效能的解析方法,该方法包括:获取待计算的介质镶嵌多层金属网的结构参数;该结构中包含间隔设置的X个金属网层和Y个介质层;结构参数中包含各个金属网层和介质层的层参数,以及用于表征每个介质层的相邻层的相邻位置参数;基于每个金属网层的层参数和入射波的角频率,确定每个金属网层的屏蔽效能;基于每个介质层的相邻位置参数和层参数,确定每个介质层的屏蔽效能;基于每个介质层的相邻位置参数、相对介电常数和入射波的频率,确定每个介质层的修正参数;根据屏蔽效能和修正参数,确定该结构的总屏蔽效能。本发明能够更加快速且准确地计算出总屏蔽效能。

主权项:1.一种介质镶嵌多层金属网屏蔽效能的解析方法,其特征在于,应用于电子设备,所述方法包括:获取待计算的介质镶嵌多层金属网的结构参数;所述介质镶嵌多层金属网中包含X个金属网层和Y个介质层,并且,所述X个金属网层和所述Y个介质层间隔设置;所述结构参数中包含每个金属网层的层参数、每个介质层的层参数、和每个介质层的相邻位置参数;每个介质层的相邻位置参数用于表征该介质层的相邻层的情况;X和Y均为大于0的整数;根据每个金属网层的层参数、真空磁导系数、自由空间中的波阻抗和入射波的角频率,确定每个金属网层的屏蔽效能;根据每个介质层的相邻位置参数和每个介质层的层参数,确定每个介质层的屏蔽效能;根据每个介质层的相邻位置参数、每个介质层的相对介电常数、入射波的频率,以及多个不同的预设系数,确定每个介质层的修正参数;根据所述屏蔽效能和所述修正参数,确定所述介质镶嵌多层金属网的总屏蔽效能。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 西安电子科技大学 介质镶嵌多层金属网屏蔽效能的解析方法及电子设备

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