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申请/专利权人：江苏芯梦半导体设备有限公司
申请日：2024-03-14
公开（公告）日：2024-06-21
公开（公告）号：CN118218326A
主分类号：B08B7/00
分类号：B08B7/00;H01L21/02;B08B9/20
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.21#公开
摘要：一种基板存储容器清洁方法，用于去除基板存储容器表面残留的水分和气态分子污染物，包括以下步骤：步骤S1，对基板存储容器进行解锁，将所述盒体和所述盖体分别置于清洁腔内；步骤S2，对密闭的清洁腔内的所述盒体和所述盖体进行加热，使所述盒体和所述盖体表面温度在预设时长内到达预设温度值；步骤S3，将密闭的清洁腔抽真空，使其内部压力低于第一预设压力值；步骤S4，向密闭的清洁腔内通入洁净干燥的压缩气体使清洁腔内部压力恢复到第二预设压力值；步骤S5，将清洁完成的所述盒体和所述盖体锁合后从清洁腔内取出。本方法在清洁腔抽真空前对盒体和盖体进行加热，从而保证了清洁过程中盖体和盒体表面的温度，从而保证清洁效率。
主权项：1.一种基板存储容器清洁方法，用于去除基板存储容器表面残留的水分和气态分子污染物，所述基板存储容器包括盒体和盖体，其特征在于，包括以下步骤：步骤S1，对基板存储容器进行解锁，将所述盒体和所述盖体分别置于清洁腔内；步骤S2，将清洁腔闭合，对密闭的清洁腔内的所述盒体和所述盖体进行加热，使所述盒体和所述盖体表面温度在预设时长内到达预设温度值；步骤S3，将密闭的清洁腔抽真空，使其内部压力低于第一预设压力值；步骤S4，向密闭的清洁腔内通入洁净干燥的压缩气体使清洁腔内部压力恢复到第二预设压力值；步骤S5，将清洁完成的所述盒体和所述盖体锁合后从清洁腔内取出。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 江苏芯梦半导体设备有限公司 一种基板存储容器清洁方法及清洁单元及清洁设备
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