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申请/专利权人:深圳大学
申请日:2024-04-12
公开(公告)日:2024-06-14
公开(公告)号:CN118192165A
专利技术分类:
专利摘要:本申请提供了纳米压印设备、纳米压印方法。纳米压印设备包括旋转平台与压印平台。旋转平台包括具有安装面的转盘、及沿转盘的周向方向设置于安装面的取片模块、滴胶模块、模板模块、及放片模块,转盘能够转动。压印平台能够沿靠近或远离安装面的方向移动。压印平台用于容置基片,还用于承接压印胶,还用于使压印胶均匀设置和烘烤压印胶,还用于进行压印与固化,还用于将压印后的基片移至放片模块内。本申请通过设置可转动的旋转平台以切换模块、及可移动的压印平台,利用两者相互联动配合,可通过纳米压印设备实现纳米压印的全流程,将纳米压印的工艺流程集中在一台设备中,实现自动化生产,减少制备时间,提高生产效率。
专利权项:1.一种纳米压印设备,其特征在于,所述纳米压印设备包括:旋转平台,包括具有安装面的转盘、及沿所述转盘的周向方向设置于所述安装面的取片模块、滴胶模块、模板模块、及放片模块,所述转盘能够转动,所述取片模块用于提供基片,所述滴胶模块用于提供压印胶,所述模板模块用于容置模板及固化所述压印胶,从而利用所述模块进行压印,所述放片模块用于移取所述压印后的基片;及压印平台,位于所述安装面的一侧,所述压印平台能够沿靠近或远离所述安装面的方向移动;所述压印平台用于容置自所述取片模块提供的所述基片,还用于承接自所述滴胶模块提供的压印胶,还用于使位于所述基片上的压印胶均匀设置和烘烤位于所述基片上的压印胶,还用于使所述基片上的压印胶与所述模板模块相配合进行压印与固化,还用于与所述放片模块相配合将所述压印后的基片移至所述放片模块内。
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