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化学增幅型正型感光性平坦化膜树脂组合物及绝缘膜 

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申请/专利权人:西安瑞联新材料股份有限公司

摘要:本发明属于光刻胶技术领域,涉及一种化学增幅型正型感光性平坦化膜树脂组合物及绝缘膜。本发明提供了化学增幅型正型感光性平坦化膜树脂组合物,其包含粘合剂树脂、添加剂、光产酸剂、溶剂、助剂,所述粘合剂树脂包含A‑1树脂、A‑2树脂、A‑3树脂;本发明制备的绝缘膜,添加了特定结构的粘合剂树脂,其含有的双硫醚、环氧、硅氧烷等结构可提高产品的透过率、附着力和硬度。添加剂能够提高绝缘膜的耐热性、耐溶剂性和树脂相容性。

主权项:1.一种化学增幅型正型感光性平坦化膜树脂组合物,包含粘合剂树脂、添加剂、光产酸剂、溶剂、助剂;其特征在于,所述粘合剂树脂包含A-1树脂、A-2树脂、A-3树脂;所述A-1树脂包含由下述式1表示的单体而进行聚合;所述A-2树脂包含由下述式2表示的重复单元;所述A-3树脂包含由下述式3表示的单体而进行聚合;所述式1、式2、式3的具体化学结构式如下: 所述式1中R选自乙烯基、乙烯丙基、丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基、苯乙烯基;L为C1-C4直链烷基、C1-C4支链烷基、芳基、N杂烷基基团、S杂烷基基团;M为甲氧基硅烷、乙氧基硅烷、异丙氧基硅烷、丁基硅烷;所述式2中R1、R2、R3选自H、C1-C4烷基;R4选自乙烯基、异丙烯基、烯丙基、甲基丙烯酸酯基、乙基丙烯酸酯基;所述式3中R1、R2选自H、C1-C4烷基;环A表示C3-C6环烷烃、杂环。

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