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申请/专利权人：信越化学工业株式会社

摘要：本发明涉及醇化合物、化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题为提供高感度且溶解对比度优良，且可提供LER及CDU小且形状良好的图案的化学增幅负型抗蚀剂组成物、适合作为使用于该化学增幅负型抗蚀剂组成物中的交联剂的醇化合物、以及使用该化学增幅负型抗蚀剂组成物的抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段为一种醇化合物，以下式A1表示。

主权项：1.一种化学增幅负型抗蚀剂组成物，含有由以下式A1表示的醇化合物构成的交联剂； 式中，k为2～4的整数；m为1或2；n为0～10的整数；R为氧原子、碳数1～10的k+1价脂肪族烃基、或也可具有取代基的碳数6～20的k+1价芳香族烃基，且构成该脂肪族烃基的-CH2-也可被-O-、-C＝O-、-O-C＝O-或-C＝O-O-取代；但是，该脂肪族烃基及该芳香族烃基中，键结于L的原子必为碳原子；R1及R2分别独立地为氢原子或碳数1～10的烃基，且该烃基的氢原子的一部分或全部也可被卤素原子取代，且构成该烃基的-CH2-也可被-O-或-C＝O-取代；但是，R1及R2不会同时为氢原子；又，R1及R2也可互相键结并和它们所键结的碳原子一起形成脂环；W为具有单环或多环结构的碳数3～20的基团，且构成这些基团的-CH2-也可被-O-、-S-或-C＝O-取代；R3分别独立地为氢原子或也可含有杂原子的碳数1～20的烃基；n为2以上时，各R3可互为相同也可相异，且2个以上的R3也可互相键结并和它们所键结的W上的原子一起形成环；L为单键、醚键、酯键、酮键、磺酸酯键、碳酸酯键或氨基甲酸酯键；X为单键、或也可含有杂原子的碳数1～40的亚烃基；但是，R为氧原子时，X不为单键；所述化学增幅负型抗蚀剂组成物更含有含氟原子的聚合物，该含氟原子的聚合物包含含有下式D1表示的重复单元及含有选自下式D2～D5表示的重复单元中的至少1种的聚合物； 式中，RC分别独立地为氢原子或甲基；RD分别独立地为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基；R301为氢原子、或碳-碳键间也可插入有含杂原子的基团的直链状或分支状的碳数1～5的烃基；R302为碳-碳键间也可插入有含杂原子的基团的直链状或分支状的碳数1～5的烃基；R303、R304、R306及R307分别独立地为氢原子或碳数1～10的饱和烃基；R305、R308、R309及R310分别独立地为氢原子、碳数1～15的烃基、碳数1～15的氟化烃基或酸不稳定基团，且R305、R308、R309及R310为烃基或氟化烃基时，碳-碳键间也可插入有醚键或羰基；g1为1～3的整数；g2为符合0≤g2≤5+2g3-g1的整数；g3为0或1；h为1～3的整数；X1为单键、-C＝O-O-或-C＝O-NH-；X2为碳数1～20的h+1价烃基或碳数1～20的h+1价氟化烃基；所述化学增幅负型抗蚀剂组成物更含有含下式B1表示的重复单元及下式B2表示的重复单元的基础聚合物； 式中，RA为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基；R11及R12分别独立地为卤素原子、也可经卤素原子取代的碳数1～6的饱和烃基、也可经卤素原子取代的碳数2～8的饱和烃基羰基氧基或也可经卤素原子取代的碳数1～6的饱和烃基氧基；A1及A2分别独立地为单键或碳数1～10的饱和亚烃基，且构成该饱和亚烃基的-CH2-也可被-O-取代；W11为氢原子、碳数1～10的脂肪族烃基、或也可具有取代基的芳基，且构成该脂肪族烃基的-CH2-也可被-O-、-C＝O-、-O-C＝O-或-C＝O-O-取代；Rx及Ry分别独立地为氢原子、或也可经羟基或饱和烃基氧基取代的碳数1～15的饱和烃基、或也可具有取代基的芳基；但是，Rx及Ry不会同时为氢原子；又，Rx及Ry也可互相键结并和它们所键结的碳原子一起形成环；t1及t2分别独立地为0或1；x1及x2分别独立地为0～2的整数；a1及b1分别独立地为1～3的整数；a2为符合0≤a2≤5+2x1-a1的整数；b2为符合0≤b2≤5+2x2-b1的整数。

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