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申请/专利权人：长鑫存储技术有限公司

申请日：2020-07-21

公开（公告）日：2024-05-14

公开（公告）号：CN113960884B

专利技术分类：.曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B27/00）[2006.01]

专利摘要：本发明实施例提供一种温度调控系统及温度调控方法，温度调控系统包括：承载台，用于承载晶圆，承载台包括中心载台以及多个边缘载台，多个边缘载台围绕中心载台设置；多个温控模块，每个温控模块都连接一个边缘载台，温控模块用于调节边缘载台上晶圆对应区域的温度；参数获取模块，用于获取承载台上的晶圆的温度；处理模块，基于晶圆的温度，获取晶圆的温度异常区域，并调节与温度异常区域对应的温控模块的温度。通过参数获取模块获取承载台上的晶圆的温度，以获取晶圆的温度异常区域；然后处理模块基于温度异常区域位置，获取对应的温控模块；通过温控模块调节晶圆的温度异常区域的温度，实现对晶圆具体位置的温度的精确调控。

专利权项：1.一种温度调控系统，应用于曝光机台，其特征在于，包括：承载台，用于承载晶圆，所述承载台包括中心载台以及多个边缘载台，所述中心载台包括：第一支撑台、第一气孔、第二气孔和第二支撑台，所述第一支撑台高于所述第二支撑台，且所述第一支撑台同于承载晶圆，通过所述第一气孔和所述第二气孔向所述第一支撑台、所述第二支撑台和待承载晶圆的底部表面构成的密闭空间进行抽气和放气实现所述待承载晶圆的固定和卸载，多个所述边缘载台围绕所述中心载台设置，且所述边缘载台包括：支撑部件，所述支撑部件内具有气体流通区域；其中，所述支撑部件包括：边缘支撑部、第一支撑部和多个分立的第二支撑部；所述边缘支撑部环绕所述第一支撑部设置，且所述边缘支撑部与所述第一支撑部之间存在空隙；所述第二支撑部位于所述空隙中，且所述边缘支撑部、所述第一支撑部与所述第二支撑部之间围成所述气体流通区域；不同所述支撑部件内的气体流通区域相互独立；恒温管道，位于相互独立的所述边缘载台之间的间隙中，所述恒温管道中通有恒温液或恒温气体；多个温控模块，每个所述温控模块都连接一个所述边缘载台，所述温控模块用于调节所述边缘载台上晶圆对应区域的温度；参数获取模块，包括：间隔设置的多个温度传感器或者红外温度传感器，用于获取所述承载台上的所述晶圆多个位置的温度，处理子模块，基于获取的所述晶圆多个位置的温度，获取所述晶圆的温度分布图；处理模块，基于所述温度分布图，获取所述晶圆的温度异常区域，并调节与所述温度异常区域对应的所述温控模块的温度，以保证所述晶圆的温度均匀分布，从而准确获取所述晶圆的套准精度；其中，所述温控模块基于所述处理模块发送的信号，向所述气体流通区域中通入预设温度的气体，以调节所述温度异常区域对应的晶圆的温度。

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