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辐射检查系统和辐射检查方法专利

发布时间:2024-05-14 00:39:47 来源:龙图腾网 导航: 龙图腾网> 最新专利技术> 辐射检查系统和辐射检查方法

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申请/专利权人:清华大学;同方威视技术股份有限公司

申请日:2017-12-26

公开(公告)日:2024-05-10

公开(公告)号:CN107966460B

专利技术分类:

专利摘要:本发明公开了一种辐射检查系统和辐射检查方法。辐射检查系统包括辐射源和射束调制装置,射束调制装置包括设置于辐射源的射束出射侧的第一准直结构和设置于第一准直结构的射束出射侧的第二准直结构,第二准直结构与第一准直结构相对可动地设置以改变第一准直结构的第一准直口和第二准直结构的第二准直口的相对位置,使射束调制装置在第一工作状态和第二工作状态之间切换,其中,在第一工作状态,射束调制装置将初始射束调制为扇形束,在第二工作状态,射束调制装置将初始射束调制为位置可变的笔形束。本发明的辐射检查系统和辐射检查方法可以兼顾检查效率和检查精度。

专利权项:1.一种辐射检查系统100,包括用于发射初始射束N1的辐射源和用于将所述初始射束N1调制为扫描射束的射束调制装置,其特征在于,所述射束调制装置包括设置于所述辐射源的射束出射侧的第一准直结构114和设置于所述第一准直结构114的射束出射侧的第二准直结构130,所述第一准直结构114包括第一准直口1141,所述第二准直结构130包括第二准直口131,所述第二准直结构130与所述第一准直结构114相对可动地设置以改变所述第一准直口1141和所述第二准直口131的相对位置,使所述射束调制装置在第一工作状态和第二工作状态之间切换,其中,在所述第一工作状态,所述射束调制装置将所述初始射束N1调制为扇形束N2,在所述第二工作状态,所述射束调制装置将所述初始射束N1调制为位置可变的笔形束N3。

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