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申请/专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所;上海恒益光学精密机械有限公司
摘要：本发明提供一种用于KDP和DKDP晶体水解抛光的抛光液及其制备方法和使用方法。所述用于KDP和DKDP晶体水解抛光的抛光液按照重量百分比由以下组分组成：环己烷40‑50％、异丙醇12‑15％、双三氟甲磺酞亚胺5‑10％、聚乙二醇辛基苯基醚27‑36％、正辛醇5‑10％。本发明针对厚度相同的KDP和DKDP晶体材料，采用上述抛光液能够实现工件表面多余材质的去除与全局纳米级平坦化，避免加工时在晶体材料加工面产生亚表面损伤，提高去除效率，便于后续应用于高功率激光器。
主权项：1.一种用于KDP和DKDP晶体水解抛光的抛光液，其特征在于，按照重量百分比由以下组分组成：
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百度查询： 中国科学院上海光学精密机械研究所 上海恒益光学精密机械有限公司 一种用于KDP和DKDP晶体水解抛光的抛光液及其制备、使用方法
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