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申请/专利权人：欣旺达电子股份有限公司
申请日：2023-11-28
公开（公告）日：2024-03-15
公开（公告）号：CN117702118A
专利技术分类：....蚀刻铁族金属用的[2006.01]
专利摘要：本发明涉及腐刻技术领域，尤其是涉及一种腐刻液和腐刻方法。本发明的腐刻液，按质量百分比计，包括如下组分：硝酸5wt％～18wt％、冰醋酸2wt％～6wt％、白磷2wt％～5wt％和氧化铁2wt％～8wt％。本发明的腐刻液具有优异的腐刻能力和稳定性，改善了腐刻形貌，降低了腐刻膜厚偏差；采用本发明的腐刻液对钢板进行腐刻得到移印钢板，提高了凹位移印图文表面的平整度、光滑度、光亮和光泽度，保证了大小图文膜厚的匹配度，从而提高了移印使用寿命，节省了移印成本。
专利权项：1.一种腐刻液，其特征在于，按质量百分比计，包括如下组分：硝酸5wt％～18wt％、冰醋酸2wt％～6wt％、白磷2wt％～5wt％和氧化铁2wt％～8wt％。
百度查询： 欣旺达电子股份有限公司 一种腐刻液和腐刻方法
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