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申请/专利权人：邓学胜
申请日：2022-03-22
公开（公告）日：2023-12-22
公开（公告）号：CN117261465A
专利技术分类：.模印面位于物品支撑面之上的[2006.01]
专利摘要：本发明涉及一种印章方法、印章设备及印章系统，通过在待盖章文件放置到印章设备底部后，限制在印章设备壳体内仅仅释放自该印章设备壳体内侧按照第一倾斜角度射向设备壳体底部方向的照明光线，再在印章设备壳体内侧采集位于待盖章文件上且与设备壳体底部正对位置的待盖章文件局部图像，并且判一旦检测到处理后的该待盖章文件局部图像存在阴影区域，就初步判定当前印章操作存在印章异常情况，执行与印章异常情况相对应的一级应对措施，以最终确认当前针对该待盖章文件的印章操作是否存在印章异常，从而避免出现印章设备所采集待盖章文件内容与印章实际加盖文件内容不一致的问题，增强在待盖章文件上加盖印章时的操作安全性。
专利权项：1.印章方法，其特征在于，包括如下步骤1～4：步骤1，将待盖章文件放置到印章设备的壳体底部后，在印章设备壳体内侧仅释放自该印章设备壳体内侧按照第一倾斜角度射向壳体底部方向的照明光线；其中，第一倾斜角度为该照明光线相对于壳体底部所处平面的倾斜角度；步骤2，在印章设备壳体内侧采集位于待盖章文件上且与设备壳体底部正对位置的待盖章文件局部图像；步骤3，对采集到的待盖章文件局部图像做出处理，得到处理后的待盖章文件局部图像；步骤4，对该处理后的待盖章文件局部图像做出判断：当该处理后的待盖章文件局部图像存在阴影区域时，初步判定当前印章操作存在异常情况，执行与异常情况相对应的一级应对措施；否则，初步判定当前印章操作处于正常情况，执行与正常情况相对应的一级操作措施；其中，阴影区域为阴影或和暗线。
百度查询： 邓学胜 印章方法、印章设备及印章系统
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