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一种光刻机MLA透镜的对准调节系统 

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申请/专利权人:安徽国芯光刻技术有限公司

摘要:本发明公开了一种光刻机MLA透镜的对准调节系统,涉及光刻机像差调节技术领域,包括有可接收光学系统的曝光光源的DMD反射单元以及可接收DMD反射单元所射出的光束的MLA透镜单元,还包括有可接收MLA透镜单元所折射出的光束的曝光焦面,所述DMD反射单元所射出的光束在MLA透镜单元上第一次成像,经过所述MLA透镜单元再次射出后位于曝光焦面表面二次成像。本发明可驱使棱镜单元调节与横向水平面的夹角度数,以达到折射、矫正光束的目的,提高了由DMD反射单元所射出的多个独立光束与MLA透镜单元内部的多个微透镜相对应过程中的精准度,进一步提高了经过MLA透镜单元射出至曝光基板上光束的质量,提升了曝光焦面上成像的精准度。

主权项:1.一种光刻机MLA透镜的对准调节系统,包括有可接收光学系统的曝光光源的DMD反射单元1以及可接收DMD反射单元1所射出的光束的MLA透镜单元2,其特征在于:还包括有可接收MLA透镜单元2所折射出的光束的曝光焦面3,所述DMD反射单元1所射出的光束在MLA透镜单元2上第一次成像,经过所述MLA透镜单元2再次射出后位于曝光焦面3表面二次成像;由所述DMD反射单元1射出至MLA透镜单元2表面的光路中还设置有调节的棱镜单元,所述棱镜单元可调节与横向水平面的夹角度数,折射光束,驱使DMD反射单元1所射出的图案光束与MLA透镜单元2相对应。

全文数据:

权利要求:

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