Document
拖动滑块完成拼图
首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 国际服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

偏振态测量装置和偏振态测量方法专利

发布时间:2022-10-24 17:02:23 来源:龙图腾网 导航: 龙图腾网> 最新专利技术> 偏振态测量装置和偏振态测量方法

买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!

申请/专利权人:华为技术有限公司

申请日:2021-04-15

公开(公告)日:2022-10-21

公开(公告)号:CN115219034A

专利技术分类:

专利摘要:本申请实施例公开了一种偏振态测量装置,应用于光通信领域。偏振态测量装置包括晶体,反射结构和探测器组。当入射光入射到第一反射结构时,产生第一反射光和第一透射光。第一反射光入射至第二反射结构,产生第二反射光和第二透射光。第二反射光入射至第三反射结构,产生第三反射光和第三透射光。探测器组用于测量第一透射光,第二透射光,第三透射光和第三反射光的四个光强度。四个光强度用于得到入射光的偏振态。本申请中的第一反射光和第二反射光经过晶体,可以增加传输矩阵的数量,从而提高设计偏振态测量装置的灵活性。

专利权项:1.一种偏振态测量装置,其特征在于,包括:晶体,反射结构和探测器组;所述反射结构包括第一反射结构,第二反射结构和第三反射结构;当入射光入射到所述第一反射结构时,产生第一反射光和第一透射光;所述第一反射光入射至所述第二反射结构,产生第二反射光和第二透射光;所述第二反射光入射至所述第三反射结构,产生第三反射光和第三透射光;其中,所述第一反射光和所述第二反射光的传输路径经过所述晶体;所述探测器组用于测量所述第一透射光,所述第二透射光,所述第三透射光和第三反射光的四个光强度,所述四个光强度用于得到所述入射光的偏振态。

百度查询: 华为技术有限公司 偏振态测量装置和偏振态测量方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。