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申请/专利权人：中国二冶集团有限公司
申请日：2021-09-18
公开（公告）日：2022-01-04
公开（公告）号：CN113879013A
专利技术分类：..用单照射源，如光束或光栅配置（B41J2/475优先）[2006.01]
专利摘要：本发明提供了一种标记系统及标记方法。系统包括：本体，内部中空，本体的底部设置有向顶部凹陷的凹设部；对中器设置于凹设部内；第一调节机构设置于本体以接收调节指令；标记机构设置于凹设部内；第二调节机构设置于本体内且与标记机构相连接；控制器设置于本体内且与对中器、第一调节机构、第二调节机构和标记机构均电性连接，用于根据调节指令调节对中器的位置以使对中器与待标记区域相对中；调节机构还在对中后发送对中完成指令；控制器根据对中完成指令锁定对中器的位置，并控制第二调节机构对标记机构的参数进行调节，以及在调节后控制标记机构对待标记区域进行标记。本发明无需人工涂抹，节省人力和时间，并能保证标记的规整，清晰整洁。
专利权项：1.一种标记系统，其特征在于，包括：本体1，内部中空，并且，所述本体1的底部设置有向顶部凹陷的凹设部110；对中器2，设置于所述凹设部110内；第一调节机构，设置于所述本体1，用于接收调节指令；标记机构，设置于所述凹设部110内；第二调节机构，设置于所述本体1的内部且与所述标记机构相连接；控制器3，设置于所述本体1内且与所述对中器2、所述第一调节机构、所述第二调节机构和所述标记机构均电性连接，用于根据所述调节指令调节所述对中器2的位置，以使所述对中器2与待标记区域相对中；所述调节机构还用于在对中后发送对中完成指令；所述控制器3还用于根据所述对中完成指令锁定所述对中器2的位置，并控制所述第二调节机构对所述标记机构的参数进行调节，以及在调节后控制所述标记机构对所述待标记区域进行标记。
百度查询： 中国二冶集团有限公司 标记系统及标记方法
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