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一种基于PTFE对TMDCs进行p型掺杂的方法及半导体 

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申请/专利权人:复旦大学

摘要:本发明公开了一种基于PTFE对TMDCs进行p型掺杂的方法及半导体,属于先进半导体器件技术领域,方法为:将TMDCs材料转移到含氟的超平PTFE基底上,从而构建了一种TMDs和PTFE的垂直异质界面,该界面对TMDCs具有高效的空穴掺杂调控,通过测定转移后的TMDCs的光谱结构和荧光寿命,表征其能带结构的变化,可确定实现对TMDCs的p型掺杂,获得p型掺杂的TMDCs半导体,从而扩展了在光电或电子器件上的应用。本发明实现了在室温下对二维TMDCs从n型到p型掺杂的转换,调节效果长期、稳定且适合大规模生产要求,方法操作简便,具有单原子层可控掺杂精度,通过含氟化合物的强电负性效应实现对二维TMDCs的空穴掺杂型。

主权项:1.一种基于PTFE对TMDCs进行p型掺杂的方法,其特征在于:包括以下步骤,S1、获取TMDCs材料;S2、将TMDCs材料转移至超平PTFE基底表面,或者通过热蒸镀法在TMDCs材料上沉积出超平PTFE薄膜,从而构建出PTFE与TMDCs的垂直异质界面,实现对TMDCs的p型掺杂。

全文数据:

权利要求:

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