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蒙版框架、蒙版和蒙版框架的制备方法专利

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申请/专利权人:信越化学工业株式会社

申请日:2019-04-01

公开(公告)日:2019-10-18

公开(公告)号:CN110347013A

专利技术分类:..以框架为特征的,例如其结构或材料[2012.01]

专利摘要:本发明涉及蒙版框架及其制备方法、以及蒙版,所述蒙版框架具备:框架基材、在上述框架基材的表面形成的厚度为2.0~7.5μm的黑色的阳极氧化被膜、和在上述阳极氧化被膜上形成的透明的聚合物电沉积涂膜,所述蒙版具备:该蒙版框架、和在上述蒙版框架的一个端面设置的蒙版膜。

专利权项:1.蒙版框架,其具备:框架基材、在上述框架基材的表面形成的厚度为2.0~7.5μm的黑色的阳极氧化被膜、和在上述阳极氧化被膜上形成的透明的聚合物电沉积涂膜。

百度查询: 信越化学工业株式会社 蒙版框架、蒙版和蒙版框架的制备方法

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