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申请/专利权人：藤森工业株式会社
申请日：2013-05-16
公开（公告）日：2018-11-20
公开（公告）号：CN104962209B
专利技术分类：.特征在于离型衬[2018.01]
专利摘要：本发明提供用于形成对被粘附体的污染少的粘结膜的粘结膜用剥离膜，进而，提供用于形成具有优异的防剥离静电性能的粘结膜的粘结膜用剥离膜、以及使用该粘结膜用剥离膜的粘结膜。本发明的粘结膜用剥离膜5能够保护至少在基材膜1的单面层叠有粘结剂层2的粘结膜的该粘结剂层2，并且能够剥离，其中，至少在树脂膜3的单面层叠剥离剂层4而成，并通过该剥离剂层4贴合在粘结剂层2的表面上，上述剥离剂层4含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂和20℃温度下是液体的硅类化合物。
专利权项：1.一种粘结膜，其是至少在基材膜的单面层叠有粘结剂层的粘结膜，保护所述粘结剂层、且能够剥离的粘结膜用剥离膜至少在树脂膜的单面层叠剥离剂层而成，并通过该剥离剂层贴合在上述粘结剂层的表面上，上述粘结剂层由与含有聚氧化烯基的化合物共聚合的甲基丙烯酸类聚合物构成，或者由混合有含有聚氧化烯基的化合物的甲基丙烯酸类聚合物构成，上述含有聚氧化烯基的化合物为选自由聚乙二醇400单丙烯酸酯、聚乙二醇400单甲基丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇400丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇400甲基丙烯酸酯、聚丙二醇400单丙烯酸酯、聚丙二醇400单甲基丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇400丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇400甲基丙烯酸酯构成的组中的一种以上，且上述粘结剂层不含聚醚改性聚硅氧烷，上述剥离剂层含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂和20℃温度下是液体的作为有机硅类化合物的聚醚改性聚硅氧烷，使上述剥离剂层所包含的上述聚醚改性聚硅氧烷转移至上述粘结剂层的表面，从被粘附体剥离上述粘结膜时的剥离静电压抑制为较低。
百度查询： 藤森工业株式会社 粘结膜用剥离膜、以及使用该粘结膜用剥离膜的粘结膜
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