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申请/专利权人：BENEQ有限公司
申请日：2013-02-12
公开（公告）日：2016-09-14
公开（公告）号：CN104114744B
专利技术分类：
专利摘要：本发明涉及一种布置为使得基底100的表面经受气态前体作用的喷嘴8和喷嘴头1。喷嘴8包括：输出面24，经由输出面供给前体；用于供给前体的纵向前体供给元件30、50；以及纵向的排放通道6，该排放通道通到输出面24并且沿着输出面，用来排放从前体通道10供给的前体的至少一部分。前体供给元件30、50布置为在排放通道6内部延伸，以使得前体供给元件30、50在纵向方向上将排放通道6分成在前体供给元件30、50的相对侧上的第一排放子通道7和第二排放子通道9，用于通过排放通道6供给前体。
专利权项：一种喷嘴8，所述喷嘴布置为使得基底100的表面经受气态前体的作用，所述喷嘴8包括：‑输出面24，经由所述输出面供给所述前体；‑用于供给前体的前体供给元件30、50；以及‑纵向的排放通道6，所述排放通道通到输出面24并且沿着输出面，用于排放从前体通道10供给的前体的至少一部分，其特征在于，所述喷嘴8还包括形成排放通道6的主体20，所述主体还包括排放管道22，所述排放管道与排放通道6基本上平行地延伸并且与排放通道流体连通，用于从排放通道6排出所排放的前体，前体供给元件30、50布置为在排放通道6内部纵向地延伸，以使得前体供给元件30、50在纵向方向上将排放通道6分成在前体供给元件30、50的相对侧上的第一排放子通道7和第二排放子通道9，用于通过排放通道6供给前体；前体供给元件30、50布置成延伸穿过排放管道22，以使得前体供给元件30、50将排放管道22分成在前体供给元件30、50的相对侧上的两个排放子管道；其中通到输出面24的至少一个清洗气体通道设置在喷嘴之间的间隙中。
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