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申请/专利权人：日本环境制造株式会社
申请日：2010-09-02
公开（公告）日：2012-07-11
公开（公告）号：CN102575448A
专利技术分类：.填方（E02D17/20优先）[2006.01]
专利摘要：本发明的目的是实现一种回填构造物，不存在施工后的挡土墙不稳定等问题，并适用于较小规模的土地改良。用于构建地下构造物的回填构造物的特征在于具有：立设在土地部的前面的多个墙面板1；贯穿设置在墙面板上的通孔并在墙面板前面侧被紧固连结的连结部件2；固定连结在连结部件2的另一端侧上的网状片3；填充在网状片3上并对网状片3进行掩埋固定的回填土主体，通过回填土主体填满墙面板1、墙面板背面侧和土地部之间。
专利权项：一种回填构造物，用于通过将挖掘出的土回填来构建地下构造物，其特征在于，具有：相对于土地部的斜面隔开规定的间隔立设的多个墙面板；沿所述多个墙面板的高度方向安装的多个片部件；和连结所述多个片部件和所述多个墙面板的连结部件，将所述挖掘出的土回填到所述规定的间隔内，并且与所述多个墙面板连结的所述多个片部件分别与地面大致平行地被铺设并被掩埋。
百度查询： 日本环境制造株式会社 回填构造物及回填方法
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