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申请/专利权人：精工爱普生株式会社
申请日：2012-11-14
公开（公告）日：2013-05-15
公开（公告）号：CN103107063A
专利技术分类：..冷却装置；加热装置；放电空间中气体或蒸气的循环装置[2006.01]
专利摘要：本发明提供一种照射装置及照射方法，能够调整光源的温度从而能够对应光源的特征地良好地维持光源的功能。照射装置，具有：光源，其具有在光源管的内表面的一部分配置的汞齐合金体；和在内部配置有所述光源的腔室，腔室具有：腔室主体；和在腔室主体形成的第一气体流入口及第一气体流出口，第一气体流入口及第一气体流出口以使得光源管中的配设有汞齐合金体的部分的外表面位于从第一气体流入口流入而从第一气体流出口流出的气体的流路之中的方式配设。
专利权项：一种照射装置，其特征在于，具有：光源，其具备在光源管的内表面的一部分配置的汞齐合金体；在内部配置有所述光源的腔室，所述腔室具有：腔室主体；和在所述腔室主体形成的第一气体流入口及第一气体流出口，所述第一气体流入口及所述第一气体流出口，以使得所述光源管中的配设有所述汞齐合金体的部分的外表面位于从所述第一气体流入口流入而从所述第一气体流出口流出的气体的流路之中的方式配设。
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