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申请/专利权人：财团法人金属工业研究发展中心

申请日：2013-12-18

公开（公告）日：2017-07-21

公开（公告）号：CN104730871B

专利技术分类：

专利摘要：一种异空间异尺寸基材对位方法，包括：撷取不同尺寸的二基板的实际局部图像；比对该二基板的标准局部特征区域内的特定标记，并取得该二基板的实际局部特征区域内的特定标记；分别建立该二基板的实际坐标系统，以合成一对位组装坐标系统；比对该二实际坐标系统中的二基板的特定标记的坐标值以取得第一组偏移量，并比对该二基板的尺寸以取得尺寸差量；利用该第一组偏移量及该尺寸差量，修正该二基板的其中一基板的特定标记的坐标值；比对该二基板的特定标记的坐标值，以取得第二组偏移量；将该基板移动至该第二组偏移量所补偿的位置。

专利权项：一种异空间异尺寸基材对位方法，其特征在于，包括下列步骤：步骤S03、利用在一第一等待空间中的校正后的二影像撷取单元及在一第二等待空间中的校正后的二影像撷取单元，分别撷取在该第一及第二等待空间中的不同尺寸的二基板的至少二实际局部图像；步骤S04、二基板的至少二实际局部图像均分别比对该二基板的标准局部特征区域内的特定标记或特定外形，并取得该二基板的至少二实际局部特征区域内的特定标记或特定外形；步骤S05、分别建立该二基板的实际坐标系统，以合成一对位组装坐标系统；步骤S06、比对该二实际坐标系统中的实际局部特征区域内的二基板的特定标记或特定外形的坐标值以取得第一组偏移量，并比对该二基板的尺寸以取得尺寸差量；步骤S07、利用该第一组偏移量及该尺寸差量，修正该二基板的其中一基板的实际局部特征区域内的特定标记或特定外形的坐标值；步骤S08、比对该二实际坐标系统中的二基板的其中一基板修正后的实际局部特征区域内的特定标记或特定外形的坐标值与该二基板的其中另一基板的实际局部特征区域内的特定标记或特定外形的坐标值，以取得第二组偏移量；步骤S09、将二基板的其中一基板移动至该第二组偏移量所补偿的位置；步骤S11、利用一第一预定移动量，使二基板的其中一基板由该第一等待空间移动到一对位组装空间中；以及步骤S12、利用一第二预定移动量，使二基板的其中另一基板由该第二等待空间移动到该对位组装空间中。

百度查询： 财团法人金属工业研究发展中心 异空间异尺寸基材对位方法