恭喜ASML荷兰有限公司彼得-詹·范兹沃勒获国家专利权
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龙图腾网恭喜ASML荷兰有限公司申请的专利用于制造隔膜组件的方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN113156774B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-04发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202110394988.4,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权用于制造隔膜组件的方法是由彼得-詹·范兹沃勒;D·德格拉夫;保罗·詹森;玛丽亚·皮特;M·A·范德柯克霍夫;威廉·琼·范德赞德;D·F·弗莱斯;W-P·福尔蒂森设计研发完成,并于2016-12-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于制造隔膜组件的方法在说明书摘要公布了:一种用于EUV光刻术的隔膜,所述隔膜具有不大于200nm的厚度并且包括叠层,所述叠层包括:至少一个硅层;和至少一个硅化合物层,由硅和选自由硼、磷、溴组成的组中的元素的化合物组成。
本发明授权用于制造隔膜组件的方法在权利要求书中公布了:1.一种用于EUV光刻术的隔膜,所述隔膜具有不大于200nm的厚度并且包括叠层,所述叠层包括:至少一个硅层;位于所述隔膜的外表面处的包括钌的至少一个盖层;和与所述盖层或每个盖层相邻的包括钼和钛中的至少一种的至少一个抗迁移层,其中,所述隔膜仅由边框保持且横跨所述边框伸展,所述边框沿所述隔膜的周边延伸。
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