恭喜东京毅力科创株式会社江崎匠大获国家专利权
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龙图腾网恭喜东京毅力科创株式会社申请的专利载置台和等离子体处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112420583B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-01-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010818424.4，技术领域涉及：H01L21/683；该发明授权载置台和等离子体处理装置是由江崎匠大;小泉克之;高桥雅典设计研发完成，并于2020-08-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本载置台和等离子体处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供载置台和等离子体处理装置，其使配置于载置台内的收容空间的基板的动作的稳定性提高。载置台包括：基台，其在内部具有收容空间；电介质层，其设于所述基台的第1面，具有载置基板的载置面，该电介质层在内部具有多个加热器；以及加热器控制基板，其配置于所述收容空间内，用于驱动所述多个加热器，所述基台在与所述第1面相反的面即所述基台的第2面具有向所述收容空间内导入制冷剂的导入口。
本发明授权载置台和等离子体处理装置在权利要求书中公布了：1.一种载置台，其中，该载置台包括：基台，其具有作为下部电极的第1部位、以及配置为与所述第1部位相向的第2部位，通过所述第1部位和所述第2部位在该基台内部形成收容空间；电介质层，其设于所述第1部位的第1面，具有载置基板的载置面，该电介质层在内部具有多个加热器；以及加热器控制基板，其配置于所述收容空间内，用于驱动所述多个加热器，所述第2部位在与所述第1面相反的面即所述第2部位的第2面具有向所述收容空间内导入制冷剂的导入口。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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