恭喜东京毅力科创株式会社天野嘉文获国家专利权
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龙图腾网恭喜东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN111834251B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-01-14发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202010276204.3,技术领域涉及:H01L21/67;该发明授权基板处理装置是由天野嘉文;藤田阳设计研发完成,并于2020-04-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理装置在说明书摘要公布了:本发明提供一种效率良好地加热基板的下表面周缘部的基板处理装置。本公开的基板处理装置具备保持部和加热机构。保持部以基板能够旋转的方式保持该基板的下表面中央部。加热机构向基板的下表面供给加热后的流体。另外,加热机构具备多个翅片、热源、流体导入部、以及流体喷出部。多个翅片在基板的下方且是保持部的外侧沿着基板的周向配置。热源加热多个翅片。流体导入部向多个翅片导入流体。流体喷出部向基板的下表面喷出通过多个翅片而被加热了的流体。
本发明授权基板处理装置在权利要求书中公布了:1.一种基板处理装置,其具备:保持部,其以基板能够旋转的方式保持该基板的下表面中央部;加热机构,其向所述基板的下表面供给加热后的流体;以及圆环状的下方杯,其配置于所述加热机构的外侧,所述加热机构具备:多个翅片,其在所述基板的下方且是所述保持部的外侧沿着所述基板的周向配置;热源,其加热所述多个翅片;第一密封构件,其设置于所述多个翅片的上方;第二密封构件,其设置于所述多个翅片的下方;流体导入部,其向所述多个翅片导入所述流体;以及流体喷出部,其向所述基板的下表面喷出通过所述多个翅片而被加热了的所述流体,所述流体喷出部具备:流入口,其配置于比所述基板的周缘部靠内侧的位置,通过所述多个翅片而被加热了的所述流体流入该流入口;喷出口,其配置于比所述流入口靠外侧的位置,朝向所述基板的下表面开口;以及流路,其连通所述流入口和所述喷出口,其中,所述加热机构、所述下方杯、所述第一密封构件以及所述第二密封构件包围形成加热空间,所述多个翅片配置在所述加热空间内。
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